產(chǎn)品型號：GMD2000

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：上海

更新時(shí)間：2024-06-12

產(chǎn)品簡介：

石墨烯納微片改性芳綸研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞

石墨烯納微片改性芳綸研磨分散機(jī)，石墨烯芳綸漿研磨分散機(jī)，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)，特制款雙入口研磨分散機(jī)

二、研磨分散機(jī)的設(shè)計(jì)

SGN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

隨著新能源汽車市場的發(fā)展，新能源汽車能走多遠(yuǎn)，zui終取決于動(dòng)力電池，而隔膜是鋰離子電池重要的組成部分，其性能決定了電池的界面結(jié)構(gòu)、內(nèi)阻等，直接影響電池的容量、循環(huán)性能和安全性能等特性。隨著平板電腦和電動(dòng)汽車的普及，傳統(tǒng)聚烯烴隔膜的熱收縮性能較差，無法滿足動(dòng)力電池高安全、高比能量密度的要求。除此之外，聚烯烴類隔膜天生的疏水性和低表面能使其不利于被極性電解液所潤濕，同時(shí)，聚烯烴類隔膜低的孔隙率也將導(dǎo)致隔膜的吸液率較低，這些將嚴(yán)重影響電池的循環(huán)性能和倍率性能，限制其在高能量鋰電池中的應(yīng)用。因此，研發(fā)具有優(yōu)異性能的新型隔膜已經(jīng)成為鋰離子電池，尤其是動(dòng)力鋰離子電池發(fā)展的已是當(dāng)務(wù)之急。

三、芳綸的簡介

芳香族聚酰胺（芳綸）是一種高強(qiáng)度、高模量、低密度和耐磨性好的有機(jī)合成材料，具有優(yōu)異的耐高溫性、良好的尺寸穩(wěn)定性、高的力學(xué)性能及良好的防火性。針對現(xiàn)有隔膜性能的不足，現(xiàn)有技術(shù)中以芳綸纖維為載體的鋰離子電池隔膜及其制備的技術(shù)。

四、研磨分散機(jī)的工藝

上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

五、GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨，分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

六、研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)

GMD2000石墨烯納微片改性芳綸研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、

電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型

研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車

研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理

進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

七、從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。